優(yōu)點：真空狀態(tài)下脫碳，變形小。表面亮光，性能提升。無脫碳/氧化。
壞處：成本太高。只合適高精密零部件。
注釋：真空淬火是在淡薄的真空中完結熱處理工序，首要靠輻射加熱,無氧化脫碳,一般淬火是在空氣中完結 熱處理工序,首要靠對流和傳導!表面狀態(tài)取決于氣氛。
真空油淬爐的廣泛性
對于氣淬爐，真空氣淬爐供給比較合適處理較高淬透性的資料的小件（如 35CrMnSi 小件）和高淬透性的資料工件，油淬爐應用要比前者相對廣些，因為高壓氣體較高冷卻速度比淬火油的冷卻速度小很多；但是氣淬爐的操作和維護保養(yǎng)都比較后者簡略。總之挑選什么樣的爐首要還是根據(jù)產(chǎn)品的熱處理性能去選。
真空氣淬爐供給真空爐加熱室的挑選
1、石墨反射屏:一般在真空爐上運用的有硬氈和軟氈兩種，適用于一般鋼材的淬火、回火、退火。高溫釬焊、粉末冶金和燒結等。
2、金屬隔熱屏; 一般在真空爐上運用的有不銹鋼和鉬兩種。鉬反射屏適用于高溫、對爐內(nèi)環(huán)境要求較高的資料的（如：高溫合金、鈦合金、磁性資料等）淬火、退火、高溫釬焊、燒結等。不銹鋼飯射屏適用于回火、低溫退火、時效、真空鋁釬焊等，一些低溫爐型的挑選。