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真空爐是一種高溫處理設(shè)備，一般需要在真空環(huán)境下進行操作。

不同的試驗和制備過程需求不同的真空度，一般根據(jù)試驗需求來確認所需的真空度。

熱應力：由于爐內(nèi)溫度散布的不均勻性，真空爐石墨件可能會遭到熱應力的影響，導致開裂或變形。

真空爐石墨件在真空爐中需求承載和支撐爐內(nèi)物料或工件。這要求真空爐石墨件具有滿足的強度和剛度，以承受高溫文真空環(huán)境下的機械應力。

化學穩(wěn)定性：石墨在真空爐中可能接觸到各種化學物質(zhì)，包含腐蝕性氣體、熔融金屬等。因而，真空爐石墨件需要具有杰出的化學穩(wěn)定性，以抵抗這些化學物質(zhì)的侵蝕和腐蝕。

真空爐的真空度要求應該在10^-5至10^-6的范圍內(nèi)，即每立方厘米的氣體分子數(shù)在這個范圍內(nèi)

真空爐的真空度對資料的制備質(zhì)量有著非常重要的影響。